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第九十七章 国产半导体(2/2)

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程钢听得满脸问号,内心对Young在半导体领域的造诣之深感到震惊。

五十岁的人了对前沿技术信手拈来,能做成IDG的合伙人果然都是狠人。

他没有打断Young,因为他对这方面也很感兴趣。

“所以就光刻技术而言,分辨率并不是大问题。尤其在self-aligned技术中。deposition淀积可以实现非常好的精度控制,特别是ALD,能实现 atom on atom的精确控制。”

“既然光刻图案需要被分解到多个mask上,芯片的图案自然不能由着芯片IC设计师随意画了,得遵循光刻的规则。”

“花为海思部门有在申海的,有在鹏城的。没一家在弯弯。”

“而这种光刻版图的规则毫无疑问是芯片代工厂的最高机密。TSMC不可能透露给客户的。海思只能把逻辑设计交给台积电,台积电再进行制造的优化。”

“海思原始设计没办法考虑这些光刻规则。这也是为什么业界一直认为长期竞争中,Intel与三星优势的原因。”

“三星很早就把三次,甚至四次曝光(self-aligned)技术引入了nand flash生产。”

“因此当台积电还在22 nm时,三星就开始宣传我们已经有14 甚至 10 nm技术了。大概是13年的时候。”

“三星与台积电在芯片代工中是竞争对手。台积电嘴巴上当然不能输。悄悄的放宽了node CD的定义,也把自己技术从22 nm吹到了14nm。”

“这种夸大也延续到了现在,实际上三星跟台积电的7nm只比Intel的14nm强一点,强的有限。”

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